采用高纯度的氧化铝微粉，结合碱性的氧化体系配方，能够高效去除损伤层，可以得到无划痕、无橘皮、超光滑的抛光表面。

产品特点及优势

• 优选原材料，可以保证原料的纯度
• 科学的配方体系，能够保证抛光速率以及抛光表面

应用领域

应用于砷化镓衬底的粗抛与精抛；磷化铟等二六族化合物半导体的精抛