纳米级采用自产微粉，搭配中性科学配方体系制成，适用于各类陶瓷材料的研磨工艺段。
氧化硅抛光液
SIN-100M 采用纳米级球形二氧化硅为原料，配合无纺布或阻尼布使用，达到高精度抛光。
多晶金刚石微粉
微米/纳米金刚石微粉，自锐性好、切削力强，适用于半导体、光学、陶瓷、金属等精密加工。
清洗剂
PL-5013 适用于玻璃、陶瓷、晶体材料CMP抛光后清洗，配合超声波清洗机使用。
纳米级采用自产微粉，搭配中性科学配方体系制成，适用于各类陶瓷材料的研磨工艺段。
SIN-100M 采用纳米级球形二氧化硅为原料，配合无纺布或阻尼布使用，达到高精度抛光。
微米/纳米金刚石微粉，自锐性好、切削力强，适用于半导体、光学、陶瓷、金属等精密加工。
PL-5013 适用于玻璃、陶瓷、晶体材料CMP抛光后清洗，配合超声波清洗机使用。