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分类：研磨微粉研磨液与研磨膏配套耗材

用于晶片与载具间粘接，常温蜡和高温蜡两款，上蜡均匀、粘接性强、不脱片。

PL-5013 适用于玻璃、陶瓷、晶体材料CMP抛光后清洗，配合超声波清洗机使用。

MPDZ 具有独特孔隙结构，压缩率及回复率高，平坦化优异、易清洁、耐酸碱、寿命长。

以优质单晶金刚石微粉为原料，团聚体强度高、球形度高，研磨速率高、表面Ra值小。

由单晶金刚石微粉加工而成，具有类似多晶金刚石的微观和特性。

纳米金刚石微粉，比表面积大，抛光表面好，可定制粒径型号。

微米/纳米金刚石微粉，自锐性好、切削力强，适用于半导体、光学、陶瓷、金属等精密加工。

采用高纯度氧化铝微粉，结合碱性氧化体系配方，高效去除损伤层，得到超光滑抛光表面。

SIN-100M 采用纳米级球形二氧化硅为原料，配合无纺布或阻尼布使用，达到高精度抛光。

采用形貌优的类多晶金刚石微粉为原料，搭配水基、油基基底液和科学配方体系。

我们可为您提供定制化服务，欢迎您联系我们。